Подробности продукции
Вольфрамовая мишень для напыления - это материал, используемый в технологии физического осаждения из паровой фазы (PVD), в основном для процессов осаждения тонких пленок. Она изготавливается из вольфрама высокой чистоты и обычно используется для нанесения атомов вольфрама на поверхность подложки путем распыления в вакуумной среде для формирования тонкой пленки.
Благодаря своей хорошей электропроводности вольфрам помогает повысить эффективность процесса осаждения.
Кроме того, износостойкость вольфрамовых мишеней позволяет им выдерживать воздействие энергичных частиц во время напыления. В полупроводниковой промышленности он используется для производства таких устройств, как интегральные схемы и тонкопленочные транзисторы. В оптоэлектронной промышленности для изготовления оптических покрытий и тонкопленочных солнечных элементов. В области дисплейных технологий - в жидкокристаллических дисплеях (LCD) и тонкопленочных электролюминесцентных дисплеях (OLED).
Наконец, в твердых покрытиях: для изготовления покрытий с высокой твердостью и износостойкостью.
Ниже перечислены шаги и меры предосторожности при использовании вольфрамовых мишеней для напыления：
1. Подготовка
Проверка оборудования: Убедитесь, что оборудование для напыления (например, система напыления на постоянном токе или ВЧ-напыления) находится в хорошем состоянии, и проведите необходимую очистку и техническое обслуживание.
Установка мишени: Установите вольфрамовую мишень на держатель мишени и обеспечьте хороший контакт с электродом мишени, чтобы обеспечить эффективное электрическое соединение.
2. Вакуумная среда
Вакуумирование: Запустите вакуумный насос, чтобы снизить давление воздуха внутри реакционной камеры до необходимого уровня вакуума. Обычно требуется рабочий вакуум от 10^-2 до 10^-6 Торр.
Ввод инертного газа: Инертный газ (например, аргон) вводится в реакционную камеру для использования в качестве газовой среды в процессе напыления.
3. Процесс напыления
Приложенное напряжение: К мишени прикладывается подходящее напряжение, чтобы создать электрическую дугу для возбуждения поверхности мишени. Выбор напряжения обычно зависит от используемого оборудования и свойств осаждаемого материала.
Напыление мишени: Энергичные частицы (например, ионы инертного газа) ударяют по поверхности мишени, заставляя атомы вольфрама вылетать с поверхности мишени и образуя тонкую пленку вольфрама.
4. Осаждение тонкой пленки
Размещение подложки: Подложка для осаждения (например, кремниевая пластина, стекло и т.д.) размещается на противоположной стороне мишени.
Рост тонкой пленки: Атомы вольфрама осаждаются на поверхности подложки, образуя тонкую пленку вольфрама. Толщину и качество пленки можно контролировать, регулируя такие параметры, как время осаждения, поток газа и мощность.
5. Финишная обработка и очистка
Остановите напыление: После достижения желаемой толщины пленки выключите питание и прекратите подачу инертного газа.
Охлаждение и удаление: После охлаждения оборудования и подложки удалите осажденную подложку и проверьте качество пленки.
Обслуживание мишени: Регулярно проверяйте износ мишени и при необходимости заменяйте ее, чтобы обеспечить постоянную стабильность процесса осаждения.
